8 ଇଞ୍ଚ SiC ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ୱେଫର 4H-N ପ୍ରକାର 0.5mm ଉତ୍ପାଦନ ଗ୍ରେଡ୍ ଗବେଷଣା ଗ୍ରେଡ୍ କଷ୍ଟମ୍ ପଲିସ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍
8-ଇଞ୍ଚ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ 4H-N ପ୍ରକାରର ମୁଖ୍ୟ ବୈଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡ଼ିକ ମଧ୍ୟରେ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ:
1. ମାଇକ୍ରୋଟ୍ୟୁବଲ୍ ଘନତା: ≤ 0.1/cm² କିମ୍ବା ତା’ଠାରୁ କମ୍, ଯେପରିକି କିଛି ଉତ୍ପାଦରେ ମାଇକ୍ରୋଟ୍ୟୁବଲ୍ ଘନତା 0.05/cm² ରୁ କମ୍ ହୋଇଯାଏ।
2. ସ୍ଫଟିକ ରୂପ ଅନୁପାତ: 4H-SiC ସ୍ଫଟିକ ରୂପ ଅନୁପାତ 100% ରେ ପହଞ୍ଚିଥାଏ।
3. ପ୍ରତିରୋଧକତା: 0.014~0.028 Ω·cm, କିମ୍ବା 0.015-0.025 Ω·cm ମଧ୍ୟରେ ଅଧିକ ସ୍ଥିର।
4. ପୃଷ୍ଠର ରୁକ୍ଷତା: CMP Si ମୁହଁ Ra≤0.12nm।
୫. ଘନତା: ସାଧାରଣତଃ ୫୦୦.୦±୨୫μm କିମ୍ବା ୩୫୦.୦±୨୫μm।
6. ଚାମ୍ଫରିଂ କୋଣ: ଘନତା ଉପରେ ନିର୍ଭର କରି A1/A2 ପାଇଁ 25±5° କିମ୍ବା 30±5°।
୭. ମୋଟ ସ୍ଥାନଚ୍ୟୁତି ଘନତା: ≤୩୦୦୦/ସେମି²।
୮. ପୃଷ୍ଠ ଧାତୁ ପ୍ରଦୂଷଣ: ≤୧E+୧୧ ପରମାଣୁ/ସେମି²।
୯. ବଙ୍କା ଏବଂ ୱାରପେଜ୍: ଯଥାକ୍ରମେ ≤ ୨୦μm ଏବଂ ≤୨μm।
ଏହି ବୈଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡ଼ିକ ଯୋଗୁଁ 8-ଇଞ୍ଚ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ଗୁଡ଼ିକ ଉଚ୍ଚ-ତାପମାନ, ଉଚ୍ଚ-ଆବୃତ୍ତି ଏବଂ ଉଚ୍ଚ-ଶକ୍ତି ବିଶିଷ୍ଟ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକର ନିର୍ମାଣରେ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ପ୍ରୟୋଗ ମୂଲ୍ୟ ରଖେ।
8 ଇଞ୍ଚ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ୱେଫରର ଅନେକ ବ୍ୟବହାର ଅଛି।
1. ପାୱାର ଡିଭାଇସ୍: ପାୱାର MOSFET (ଧାତୁ-ଅକ୍ସାଇଡ୍-ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଫିଲ୍ଡ-ଇଫେକ୍ଟ ଟ୍ରାଞ୍ଜିଷ୍ଟର), ସ୍କୋଟକି ଡାୟୋଡ୍ ଏବଂ ପାୱାର ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେସନ୍ ମଡ୍ୟୁଲ୍ ଭଳି ପାୱାର ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ଡିଭାଇସ୍ ନିର୍ମାଣରେ SiC ୱେଫରଗୁଡ଼ିକ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ। SiCର ଉଚ୍ଚ ତାପଜ ପରିବାହିତା, ଉଚ୍ଚ ବ୍ରେକଡାଉନ୍ ଭୋଲଟେଜ୍ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନ୍ ଗତିଶୀଳତା ଯୋଗୁଁ, ଏହି ଡିଭାଇସ୍ଗୁଡ଼ିକ ଉଚ୍ଚ-ତାପମାନ, ଉଚ୍ଚ-ଭୋଲଟେଜ୍ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ-ଆବୃତ୍ତି ପରିବେଶରେ ଦକ୍ଷ, ଉଚ୍ଚ-କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମ ଶକ୍ତି ପରିବର୍ତ୍ତନ ହାସଲ କରିପାରିବେ।
୨. ଅପ୍ଟୋଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ଡିଭାଇସ୍: ଫଟୋଡିଟେକ୍ଟର, ଲେଜର ଡାୟୋଡ୍, ଅଲ୍ଟ୍ରାଭାୟୋଲେଟ୍ ସୋର୍ସ, ଇତ୍ୟାଦି ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ଅପ୍ଟୋଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ଡିଭାଇସ୍ ରେ SiC ୱେଫର୍ ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଭୂମିକା ଗ୍ରହଣ କରେ। ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡର ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଏବଂ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ଗୁଣ ଏହାକୁ ପସନ୍ଦର ସାମଗ୍ରୀ କରିଥାଏ, ବିଶେଷକରି ଯେଉଁ ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକରେ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା, ଉଚ୍ଚ ଫ୍ରିକ୍ୱେନ୍ସି ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ଶକ୍ତି ସ୍ତର ଆବଶ୍ୟକ ହୁଏ।
3. ରେଡିଓ ଫ୍ରିକ୍ୱେନ୍ସି (RF) ଡିଭାଇସ୍: SiC ଚିପ୍ସ RF ପାୱାର ଆମ୍ପ୍ଲିଫାୟର, ଉଚ୍ଚ-ଫ୍ରିକ୍ୱେନ୍ସି ସ୍ୱିଚ୍, RF ସେନ୍ସର ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ RF ଡିଭାଇସ୍ ତିଆରି କରିବା ପାଇଁ ମଧ୍ୟ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ। SiCର ଉଚ୍ଚ ତାପଜ ସ୍ଥିରତା, ଉଚ୍ଚ-ଫ୍ରିକ୍ୱେନ୍ସି ବୈଶିଷ୍ଟ୍ୟ ଏବଂ କମ୍ କ୍ଷତି ଏହାକୁ ତାରହୀନ ଯୋଗାଯୋଗ ଏବଂ ରାଡାର ସିଷ୍ଟମ୍ ଭଳି RF ପ୍ରୟୋଗ ପାଇଁ ଆଦର୍ଶ କରିଥାଏ।
୪.ଉଚ୍ଚ-ତାପମାନ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସ: ସେମାନଙ୍କର ଉଚ୍ଚ ତାପମାନ ସ୍ଥିରତା ଏବଂ ତାପମାତ୍ରା ସ୍ଥିତିସ୍ଥାପକତା ହେତୁ, SiC ୱେଫରଗୁଡ଼ିକୁ ଉଚ୍ଚ-ତାପମାନ ପରିବେଶରେ କାର୍ଯ୍ୟ କରିବା ପାଇଁ ଡିଜାଇନ୍ କରାଯାଇଥିବା ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସ ଉତ୍ପାଦ ଉତ୍ପାଦନ କରିବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଏ, ଯେଉଁଥିରେ ଉଚ୍ଚ-ତାପମାନ ଶକ୍ତି ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସ, ସେନ୍ସର ଏବଂ ନିୟନ୍ତ୍ରକ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ।
8-ଇଞ୍ଚ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ 4H-N ପ୍ରକାରର ମୁଖ୍ୟ ପ୍ରୟୋଗ ପଥଗୁଡ଼ିକ ମଧ୍ୟରେ ଉଚ୍ଚ-ତାପମାନ, ଉଚ୍ଚ-ଆବୃତ୍ତି ଏବଂ ଉଚ୍ଚ-ଶକ୍ତି ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ଡିଭାଇସ୍ ନିର୍ମାଣ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ, ବିଶେଷକରି ଅଟୋମୋଟିଭ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସ, ସୌର ଶକ୍ତି, ପବନ ଶକ୍ତି ଉତ୍ପାଦନ, ବୈଦ୍ୟୁତିକ ଲୋକୋମୋଟିଭ୍, ସର୍ଭର, ଘରୋଇ ଉପକରଣ ଏବଂ ବୈଦ୍ୟୁତିକ ଯାନ କ୍ଷେତ୍ରରେ। ଏହା ବ୍ୟତୀତ, SiC MOSFETs ଏବଂ Schottky ଡାୟୋଡ୍ ଭଳି ଡିଭାଇସ୍ ଫ୍ରିକ୍ୱେନ୍ସି ପରିବର୍ତ୍ତନ, ସର୍ଟ-ସର୍କିଟ୍ ପରୀକ୍ଷଣ ଏବଂ ଇନଭର୍ଟର ପ୍ରୟୋଗରେ ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ପ୍ରଦର୍ଶନ କରିଛି, ଯାହା ପାୱାର ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ସରେ ସେମାନଙ୍କର ବ୍ୟବହାରକୁ ଚାଳିତ କରୁଛି।
ଗ୍ରାହକଙ୍କ ଆବଶ୍ୟକତା ଅନୁସାରେ XKH କୁ ବିଭିନ୍ନ ଘନତା ସହିତ କଷ୍ଟମାଇଜ୍ କରାଯାଇପାରିବ। ବିଭିନ୍ନ ପୃଷ୍ଠ ରୁକ୍ଷତା ଏବଂ ପଲିସିଂ ଚିକିତ୍ସା ଉପଲବ୍ଧ। ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକାରର ଡୋପିଂ (ଯେପରିକି ନାଇଟ୍ରୋଜେନ୍ ଡୋପିଂ) ସମର୍ଥିତ। ଗ୍ରାହକମାନେ ବ୍ୟବହାର ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ସମସ୍ୟାର ସମାଧାନ କରିପାରିବେ ତାହା ନିଶ୍ଚିତ କରିବା ପାଇଁ XKH ବୈଷୟିକ ସହାୟତା ଏବଂ ପରାମର୍ଶ ସେବା ପ୍ରଦାନ କରିପାରିବ। 8-ଇଞ୍ଚ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ମୂଲ୍ୟ ହ୍ରାସ ଏବଂ ବର୍ଦ୍ଧିତ କ୍ଷମତା ଦୃଷ୍ଟିରୁ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ସୁବିଧା ପ୍ରଦାନ କରେ, ଯାହା 6-ଇଞ୍ଚ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ତୁଳନାରେ ୟୁନିଟ୍ ଚିପ୍ ମୂଲ୍ୟକୁ ପ୍ରାୟ 50% ହ୍ରାସ କରିପାରିବ। ଏହା ସହିତ, 8-ଇଞ୍ଚ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ର ବର୍ଦ୍ଧିତ ଘନତା ମେସିନିଂ ସମୟରେ ଜ୍ୟାମିତିକ ବିଚ୍ୟୁତି ଏବଂ ଧାର ୱାର୍ପିଙ୍ଗ୍ ହ୍ରାସ କରିବାରେ ସାହାଯ୍ୟ କରେ, ଯାହା ଫଳରେ ଉତ୍ପାଦନ ଉନ୍ନତ ହୁଏ।
ବିସ୍ତୃତ ଚିତ୍ର


