4 ଇଞ୍ଚ SiC ୱାଫର୍ସ 6H ସେମି-ଇନସୁଲେଟିଂ SiC ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପ୍ରାଇମ, ଅନୁସନ୍ଧାନ ଏବଂ ଡମି ଗ୍ରେଡ୍ |

ସଂକ୍ଷିପ୍ତ ବର୍ଣ୍ଣନା:

ସେମି-ଇନସୁଲେଟେଡ୍ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ କାଟି, ଗ୍ରାଇଣ୍ଡ୍, ପଲିସିଂ, ସଫେଇ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା ଦ୍ୱାରା ଅର୍ଦ୍ଧ-ଇନସୁଲେଡ୍ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ସ୍ଫଟିକର ବୃଦ୍ଧି ପରେ ସୃଷ୍ଟି ହୁଏ |ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଉପରେ ଏକ ସ୍ତର କିମ୍ବା ମଲ୍ଟିଲାୟର୍ ସ୍ଫଟିକ୍ ସ୍ତର ବ grown ଼ିଥାଏ ଯାହା ଏପିଟାକ୍ସି ଭାବରେ ଗୁଣାତ୍ମକ ଆବଶ୍ୟକତା ପୂରଣ କରେ, ଏବଂ ତା’ପରେ ମାଇକ୍ରୋୱେଭ୍ ଆରଏଫ୍ ଡିଭାଇସ୍ ସର୍କିଟ୍ ଡିଜାଇନ୍ ଏବଂ ପ୍ୟାକେଜିଂକୁ ମିଶାଇ ତିଆରି ହୁଏ |2inch 3inch 4incgh 6inch 8 ଇଞ୍ଚ ଶିଳ୍ପ, ଅନୁସନ୍ଧାନ ଏବଂ ପରୀକ୍ଷଣ ଗ୍ରେଡ୍ ସେମି-ଇନସୁଲେଡ୍ ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ଏକକ ସ୍ଫଟିକ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଭାବରେ ଉପଲବ୍ଧ |


ଉତ୍ପାଦ ବିବରଣୀ

ଉତ୍ପାଦ ଟ୍ୟାଗ୍ସ |

ଉତ୍ପାଦ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟକରଣ |

ଗ୍ରେଡ୍

ଜିରୋ MPD ଉତ୍ପାଦନ ଗ୍ରେଡ୍ (Z ଗ୍ରେଡ୍)

ମାନକ ଉତ୍ପାଦନ ଗ୍ରେଡ୍ (ପି ଗ୍ରେଡ୍)

ଡମି ଗ୍ରେଡ୍ (ଡି ଗ୍ରେଡ୍)

 
ବ୍ୟାସ 99.5 mm ~ 100.0 mm  
  4H-SI 500 μm ± 20 μm |

500 μm ± 25 μm |

 
ୱେଫର୍ ଓରିଏଣ୍ଟେସନ୍ |  

 

ଅଫ୍ ଅକ୍ଷ: 4H-N ପାଇଁ 4.0 ° <1120> ± 0.5 °, ଅକ୍ଷରେ: 4000-SI ପାଇଁ <0001> ± 0.5 ° |

 
  4H-SI

≤1cm-2

≤5 ସେ.ମି.-2

≤15 ସେ.ମି.-2

 
  4H-SI

≥1E9 Ω · cm

≥1E5 Ω · ସେମି |

 
ପ୍ରାଥମିକ ଫ୍ଲାଟ ଓରିଏଣ୍ଟେସନ୍ |

{10-10} ± 5.0 ° |

 
ପ୍ରାଥମିକ ଫ୍ଲାଟ ଲମ୍ବ | 32.5 mm ± 2.0 mm  
ଦ୍ୱିତୀୟ ଫ୍ଲାଟ ଲମ୍ବ | 18.0 mm ± 2.0 mm  
ସେକେଣ୍ଡାରୀ ଫ୍ଲାଟ ଓରିଏଣ୍ଟେସନ୍ |

ସିଲିକନ୍ ମୁହଁ: 90 ° CW |ପ୍ରାଇମ୍ ଫ୍ଲାଟରୁ ± 5.0 ° |

 
ଧାର ବହିଷ୍କାର |

3 ମିମି

 
LTV / TTV / ଧନୁ / ୱାର୍ପ | ≤3 μm / ≤5 μm / ≤15 μm / ≤30 μm | ≤10 μm / ≤15 μm / ≤25 μm / ≤40 μm |  
 

ରୁଗ୍ଣତା |

C ମୁଖ

    ପୋଲାଣ୍ଡ Ra≤1 nm

ସି ମୁହଁ |

CMP Ra≤0.2 nm    

Ra≤0.5 nm

ଉଚ୍ଚ ତୀବ୍ରତା ଆଲୋକ ଦ୍ୱାରା ଏଜ୍ ଫାଟ |

କିଛି ନୁହେଁ |

ସଂଗୃହିତ ଲମ୍ବ ≤ 10 ମିମି, ଏକକ |

ଲମ୍ବ≤2 ମିମି

 
ଉଚ୍ଚ ତୀବ୍ରତା ଆଲୋକ ଦ୍ୱାରା ହେକ୍ସ ପ୍ଲେଟ୍ | ସଂଗୃହିତ କ୍ଷେତ୍ର ≤0.05% | ସଂଗୃହିତ କ୍ଷେତ୍ର ≤0.1% |  
ଉଚ୍ଚ ତୀବ୍ରତା ଆଲୋକ ଦ୍ୱାରା ପଲିଟାଇପ୍ କ୍ଷେତ୍ରଗୁଡିକ |

କିଛି ନୁହେଁ |

ସଂଗୃହିତ କ୍ଷେତ୍ର ≤3% |  
ଭିଜୁଆଲ୍ କାର୍ବନ୍ ଅନ୍ତର୍ଭୂକ୍ତ | ସଂଗୃହିତ କ୍ଷେତ୍ର ≤0.05% | ସଂଗୃହିତ କ୍ଷେତ୍ର ≤3% |  
ଉଚ୍ଚ ତୀବ୍ରତା ଆଲୋକ ଦ୍ୱାରା ସିଲିକନ୍ ସର୍ଫେସ୍ ସ୍କ୍ରାଚ୍ |  

କିଛି ନୁହେଁ |

ସଂକଳନ ଦ length ର୍ଘ୍ୟ ≤1 * ୱେଫର୍ ବ୍ୟାସ |  
ତୀବ୍ରତା ଆଲୋକ ଦ୍ୱାରା ଏଜ୍ ଚିପ୍ସ ଉଚ୍ଚ | କେହି ≥0.2 ମିମି ଓସାର ଏବଂ ଗଭୀରତାକୁ ଅନୁମତି ଦେଲେ ନାହିଁ | 5 ଅନୁମତିପ୍ରାପ୍ତ, ପ୍ରତ୍ୟେକ ≤1 ମିମି |  
ଉଚ୍ଚ ତୀବ୍ରତା ଦ୍ Sil ାରା ସିଲିକନ୍ ସର୍ଫେସ୍ ପ୍ରଦୂଷଣ |

କିଛି ନୁହେଁ |

 
ପ୍ୟାକେଜିଂ

ମଲ୍ଟି ୱେଫର୍ କ୍ୟାସେଟ୍ କିମ୍ବା ଏକକ ୱାଫର୍ କଣ୍ଟେନର୍ |

 

ବିସ୍ତୃତ ଚିତ୍ର

ବିସ୍ତୃତ ଚିତ୍ର (1)
ବିସ୍ତୃତ ଚିତ୍ର (୨)

  • ପୂର୍ବ:
  • ପରବର୍ତ୍ତୀ:

  • ତୁମର ବାର୍ତ୍ତା ଏଠାରେ ଲେଖ ଏବଂ ଆମକୁ ପଠାନ୍ତୁ |